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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀

  • 產(chǎn)品型號(hào):CY-MSH325- II-DCRF-SS
  • 產(chǎn)品廠商:成越科儀
  • 產(chǎn)品文檔:
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簡(jiǎn)單介紹:
雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng),具有雙靶2"目標(biāo)源,例如,一個(gè)直流源用于涂覆金屬薄膜,另一個(gè)射頻源用于涂覆非金屬材料。雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆單層或多層薄膜,適用于各種材料,如合金、鐵電、半導(dǎo)體、陶瓷、電介質(zhì)、光學(xué)、聚四氟乙烯等。
詳情介紹:

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀主要特點(diǎn):

1、配置兩個(gè)靶槍,一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜,一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。
2、可制備多種薄膜,應(yīng)用廣泛。
3、體積小,操作簡(jiǎn)便。

雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀技術(shù)規(guī)格:

項(xiàng)目

明細(xì)

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSH325- II-DCRF-SS

供電電壓

AC220V,50Hz

整機(jī)功率

4KW

系統(tǒng)真空

5×10-4Pa

樣品臺(tái)

外形尺寸

φ140mm

加熱溫度

500℃

控溫精度

±1

可調(diào)轉(zhuǎn)速

20rpm

磁控靶槍

靶材尺寸

直徑Φ50.8mm,厚度3mm

冷卻模式

循環(huán)水冷

水流大小

不小于10L/Min

真空腔體

腔體尺寸

直徑φ325mm,高度500mm

腔體材質(zhì)

SUU304不銹鋼

觀察窗口

直徑φ100mm

開啟方式

頂開式

氣體控制

1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量,量程為:200SCCM

真空系統(tǒng)

配分子泵系統(tǒng)1套,氣體抽速600L/S

膜厚測(cè)量

可選配石英晶體膜厚儀,分辨率0.10 ?

濺射電源

直流電源500W,射頻電源500W

控制系統(tǒng)

CYKY自研專業(yè)級(jí)控制系統(tǒng)

設(shè)備尺寸

600mm × 650mm × 1280mm

設(shè)備重量

350kg
































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