產(chǎn)品分類
- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
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磁控濺射鍍膜儀帶振動樣... 帶振動樣品臺的三靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設(shè)備配有兩臺直流電源...
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桌面型石英腔體單靶磁控... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電...
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桌面型偏置靶單靶磁控鍍... 單靶磁控鍍膜儀配有一個直流電源，可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射。單靶磁控鍍膜儀真空系統(tǒng)采用渦輪分子泵組，抽氣速度快，極限...
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行星式單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型行星式單靶磁控鍍膜儀，腔體下半部為不銹鋼機構(gòu)，上部為高純石英，兼顧了真空性能和容納復(fù)雜樣品臺的功能型。設(shè)備...
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桌面型靶下置型磁控鍍膜... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電...
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傾斜樣品臺式單靶磁控鍍... 本設(shè)備為傾斜樣品臺式單靶磁控鍍膜儀，樣品臺與靶面的角度可調(diào)，可用于制作特定生長角度的薄膜。設(shè)備外形為桌面級別，大大減少了...
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桌面型不銹鋼腔體雙靶磁... 雙靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備
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?桌面型雙靶直流磁控鍍... ?桌面型雙靶直流磁控鍍膜儀可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，尤其是實驗室SEM樣品...
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雙靶DCRF磁控濺射鍍... 雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)采用靶下置樣品臺在上方的布局。雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(靶下置型)兩個靶位，直流...
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?雙靶DCRF磁控濺射... ?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀（往復(fù)樣品臺）配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄...
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桌面型單靶磁控鍍膜儀（... 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個高性能...
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桌面型單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電...
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UPS三靶磁控濺射鍍膜... 三靶磁控濺射鍍膜機是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設(shè)備。 它是標(biāo)準(zhǔn)化，模塊化和可定制的。 該裝置可用于制備單層...
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桌面型雙靶磁控鍍膜儀 CY-MSP210S-RFD桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機構(gòu)，將設(shè)...
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往復(fù)樣品臺單靶磁控鍍膜... 桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以...
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三靶磁控濺射鍍膜儀雙電... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設(shè)備，具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
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帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
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分體式單靶磁控鍍膜儀 本設(shè)備為單靶磁控鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實驗室SEM樣品制備...
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雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)...
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磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合... 磁控濺射/真空蒸發(fā)復(fù)合型鍍膜設(shè)備將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
