噴霧熱解制膜法，是將溶液霧化后噴涂到加熱的基座上，然后在基底上得到想要的物質(zhì)結(jié)構(gòu)。本設(shè)備是由我公司自主研發(fā)的一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID控溫的加熱襯底基板、高精度蠕動(dòng)泵以及精密程控的步進(jìn)電機(jī)移動(dòng)機(jī)構(gòu)。本設(shè)備通過整合設(shè)計(jì)能夠準(zhǔn)確控制溶液出液量、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)，同時(shí)基底溫度也可以進(jìn)行控制，能夠滿足您的各種試驗(yàn)需求。

此種材料制備方法特別適用于沉積氧化物，而且在制備透明電極的應(yīng)用中已有相當(dāng)長的歷史?，F(xiàn)在這種方法在制備鈣鈦礦型太陽能電池中得到廣泛的應(yīng)用。

超聲波熱解噴涂機(jī)技術(shù)參數(shù)：

項(xiàng)目	明細(xì)
供電電壓	AC220V，50Hz
Max 功率	3.5KW （含壓縮機(jī)+注射泵）
超聲波霧化器	50KHz 30W
液體粘度	1-50mPa·s（cP）
噴頭行程	X：260， Y：260，Z：100
移動(dòng)速度	0.1-80mm/s （x軸方向）  0.10-80mm/s（Y軸方向）
加熱襯底基板	150mm × 150mm
Max 溫度	500℃
控溫方式	AI-PID 控溫
滴涂罐容量	注液器：60ML-250ML
注射泵分液速率	0.006-41mL/min
操控方式	工控電腦+儀器面板
整機(jī)尺寸	800mm×550mm× 1100mm

免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)，僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r(shí)，會(huì)造成所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異，請(qǐng)與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，本公司會(huì)不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知，請(qǐng)您見諒