- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長(zhǎng)爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束,激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品

雙工位單面實(shí)驗(yàn)室手套箱
主要特點(diǎn)
1、可自動(dòng)化功能控制氣壓,檢測(cè),凈化,還原
2、觸摸屏幕:彩色中英文操作界面,易于進(jìn)入各功能,實(shí)現(xiàn)人機(jī)對(duì)話(huà)
3、循環(huán):閉合環(huán)氣體循環(huán),無(wú)油和真空
4、氣壓控制:自動(dòng)控制,工作氣壓可設(shè)定在范圍+/-12mbar
5、箱體清洗:自動(dòng)控制,易于操作,節(jié)約氣體,對(duì)操作溶劑**
6、腳踏開(kāi)關(guān):箱內(nèi)氣壓可通過(guò)腳踏開(kāi)關(guān)調(diào)整
7、配置國(guó)際知名品牌組件
8、密封性能優(yōu)越,更換方便
9、數(shù)據(jù)備忘錄:自動(dòng)記錄系統(tǒng)數(shù)據(jù)
10、制系統(tǒng):采用PLC程序控制系統(tǒng)
技術(shù)參數(shù)
封閉箱體 |
SUS304不銹鋼板,1800MM*750MM*900MM,厚 度3mm |
大過(guò)渡艙 |
SUS304不銹鋼類(lèi)型,厚度3mm,直徑360mm,長(zhǎng)度600mm |
小過(guò)渡艙 |
SUS304不銹鋼板,厚度3mm,直徑100mm,長(zhǎng)度300mm |
凈化系統(tǒng) |
SUS304不銹鋼,可再生的凈化材料 |
循環(huán)管道 |
SUS304不銹鋼,KF40管 |
手套口 |
硬鋁合金 |
照明 |
在前窗有熒光燈 |
壓力控制 |
PLC自動(dòng)控制,工作壓力可設(shè)定在±12mbar |
吸附裝置 |
SUS304不銹鋼板,可更新填充凈化材料,水、氧控制在<1ppm |
設(shè)計(jì)凈化柱吸收容量 |
水1.3公斤,氧30升 |
循環(huán) |
無(wú)油及真空,微處理器控制,經(jīng)過(guò)壓力測(cè)試的不銹鋼裝置 |
再生 |
自動(dòng)再生程序 |
工作氣體 |
氮?dú)?、氬氣、氦?/span> |
再生氣體 |
工作氣體/H2混合物,5-10%氫 |
真空泵 |
選用原裝真空泵,流量為8m3/h |
電源 |
AC220V / 50HZ |
產(chǎn)品用處
1、半導(dǎo)體工業(yè)中MOCVD技術(shù)
2、特種燈(HID)開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)
3、微電子、激光及等離子焊
4、OLED/PLED開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)
5、鋰離子電池開(kāi)發(fā)與生產(chǎn)
6、無(wú)機(jī)/有機(jī)化學(xué)研究
7、金屬鹵化物/金屬粉末/陶瓷粉末研究
8、納米材料研究
9、催化劑研究
10、YAG激光焊接
11、食品微生物檢驗(yàn)
12、醫(yī)療衛(wèi)生臨床標(biāo)本檢驗(yàn)