- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機(jī)
- 涂布機(jī)
- 等離子清洗機(jī)
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機(jī)
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機(jī)
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機(jī)
- 真空手套箱
- 真空熱壓機(jī)
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計(jì)
- 真空法蘭
- 混料機(jī)設(shè)備
- UV光固機(jī)
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗(yàn)設(shè)備
- 實(shí)驗(yàn)室產(chǎn)品配件
- 實(shí)驗(yàn)室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
○ 產(chǎn)品介紹
TN-PEC250G-HV碳鎢蒸發(fā)等離子濺射復(fù)合鍍膜儀可進(jìn)行真空蒸碳、真空熱蒸發(fā)和等離子濺射，它也可以在高純氬氣的保護(hù)之下進(jìn)行多種離子處理。通過更換功能套件，設(shè)備可以在多種功能間快速切換，非常適合實(shí)驗(yàn)室制作SEM樣品使用。本儀器裝有機(jī)械泵和分子泵，能夠滿足多種真空度要求，尤其能夠?qū)崿F(xiàn)高真空，能夠有效提高鍍膜質(zhì)量。
○ 適用范圍
實(shí)驗(yàn)室鍍膜使用。
○ 技術(shù)參數(shù)
|
真空腔體 |
高純石英，鐘罩狀，φ250x340mm |
|
蒸發(fā)腔體 |
高純石英，鍍罩狀，帶側(cè)面開孔，尺寸φ88x150mm |
|
等離子濺射腔體 |
高純石英，鍍罩狀，帶側(cè)面開孔，尺寸φ88x150mm |
|
|
等離子濺射套件 濺射電壓1600V
*大電流50mA
靶面尺寸2英寸
工作真空10Pa~20Pa
工作氣氛需通入高純氬氣
|
|
熱蒸發(fā)鍍膜套件 蒸發(fā)源數(shù)量2個
*大電流100A
工作真空10^-3Pa
工作氣氛不通入任何氣體
樣品臺直徑φ60mm，可旋轉(zhuǎn)
|
|
|
|
碳蒸發(fā)套件 蒸發(fā)方式碳棒蒸發(fā)
*大電流160A
工作真空10^-3Pa
工作氣氛不通入任何氣體
|
|
真空系統(tǒng) |
產(chǎn)品型號TN-GZK103-A 分子泵渦輪分子泵 前極泵雙極旋片泵 抽氣速率分子泵：600L/S綜合抽氣性能：30分鐘真空度可達(dá)：5×10E-3Pa 旋片泵：1.1L/S 極限真空5×10E-4Pa 抽氣接口KF40 排氣接口KF16 真空測量復(fù)合真空計(jì) |
|
進(jìn)氣系統(tǒng) |
配有手動微調(diào)閥，接口為1/4英寸卡套接頭 |
|
供電要求 |
AC 220V 50Hz |
○免責(zé)聲明
本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等），僅供參考。泰諾公司產(chǎn)品在不斷更新，網(wǎng)站內(nèi)容可能由于更新不及時，或許導(dǎo)致所述內(nèi)容與實(shí)際情況存在一定的差異，請與本公司銷售人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，泰諾公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知。
