- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
產(chǎn)品特點
1：此款鍍膜儀配置有兩個靶槍：一個靶槍配套的是射頻電源，用于非導電靶材的濺射鍍膜；一個靶槍配套的是直流電源，用于導電材料的濺射鍍膜
2：該鍍膜儀可以制備多種不同材料的薄膜，應用非常廣泛。
3：該鍍膜儀體積較小，且配備有觸摸屏控制面板，操作方便。
產(chǎn)品參數(shù):
項目
明細
產(chǎn)品型號
CY-MSH500- II-DCRF-SS
供電電壓
AC220V，50Hz
整機功率
4KW
系統(tǒng)真空
≦5×10-4Pa
樣品臺
外形尺寸
φ140mm
加熱溫度
≦500℃
控溫精度
±1℃
可調(diào)轉速
≦20rpm
磁控靶槍
靶材尺寸
直徑Φ50.8mm，厚度≦3mm
冷卻模式
循環(huán)水冷
水流大小
不小于10L/Min
真空腔體
腔體尺寸
直徑φ500mm，高度560mm
腔體材質
SUU304不銹鋼
觀察窗口
直徑φ100mm
開啟方式
頂開式
氣體控制
1路質量流量計用于控制Ar流量，量程為:200SCCM
真空系統(tǒng)
配分子泵系統(tǒng)1套，氣體抽速600L/S
膜厚測量
可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ?
濺射電源
直流電源500W,射頻電源500W
控制系統(tǒng)
CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng)
設備尺寸
600mm
× 650mm × 1280mm
設備重量
350kg
